發布時間:2019-04-26
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鋁氧化加工所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液,鉛作為陰極,僅起導電作用。鋁以及其鋁合金制品進行陽極氧化時,鋁氧化加工在陽極作用下發生了下列的反應:2Al--->6e-+2Al3+;在陰極的作用下發生下列反應:6H2O+6e---->3H2+6OH-;同時其酸對鋁及制品的生成的氧化膜進行化學反應溶解,其反應為:2Al+6H+--->2Al3++3H2;Al2O3+6H+--->2Al3++3H2O氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。
第一段a(曲線ab段):無孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時間之內,鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層,厚度約0.01~0.1微米,為一層連續的、無孔的薄膜層,我們稱之為無孔層或者是阻擋層,此膜的出現阻礙了電流的通過和膜層的繼續增厚。無孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關系,與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此,曲線ab段的電壓就表現出其由零開始急劇增大至其最大值。
第二段b(曲線bc段):多孔層形成。隨著其鋁氧化加工膜的生成形成,電解液對膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻,在膜最薄的地方將首先被溶解出空穴來,電解液就可以通過這些空穴到達鋁的新鮮表面,電化學反應得以繼續進行,電阻減小,電壓隨之下降(下降幅度為最高值的10~15%),膜上出現多孔層。
第三段c(曲線cd段):多孔層增厚。鋁氧化加工在陽極氧化約20s后,電壓進入比較平穩而緩慢的上升階段。表明無孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時,新的無孔層又在生長,也就是說氧化膜中無孔層的生成速度與溶解速度基本上達到了平衡,故無孔層的厚度不再增加,電壓變化也很小。但是,此時在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒有停止,他們仍在不斷進行著,結果使孔的底部逐漸向金屬基體內部移動。隨著氧化時間的延續,孔穴加深形成孔隙,具有孔隙的膜層逐漸加厚。當膜生成速度和溶解速度達到動態平衡時,即使再延長氧化時間,氧化膜的厚度也不會再增加,此時應停止鋁氧化過程。
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